栅极直接隧穿和体电流在MOSFET中的重要性
1 引言
在现代集成电路设计中,MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)是核心元件之一。随着技术节点的不断缩小,栅极直接隧穿电流和体电流逐渐成为不容忽视的问题。这些电流不仅构成了电路的漏电流,还可能干扰某些敏感电路的操作。本文将深入探讨栅极直接隧穿电流和体电流的物理机制、建模方法及其在电路设计中的应用。
2 栅极直接隧穿电流理论与模型
2.1 隧穿机制与电流组件
当栅介质厚度减小到一定程度时,栅介质直接隧穿漏电流成为一个重要的问题。这些漏电流的物理机制是电荷载体(电子和空穴)在硅衬底和多晶硅栅之间直接隧穿或带间隧穿。随着栅介质厚度的减小,电荷载体隧穿的概率呈指数增长。图4.1展示了隧穿机制的示意图。
图4.1 隧穿机制示意图
| MOSFET | Inversion | Inversion | Accumulation |
|---|---|---|---|
| NMOS | ECB | EVB | ECB |
| PMOS | HVB | EVB | ECB |
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