低功耗设计在现在的IC系统中非常重要,正如Intel所称:功耗问题是决定摩尔定理能否适用的唯一因素。在CMOS电路中,功耗可以分为动态功耗和静态功耗。静态功耗是电路不工作时消耗的功耗;动态功耗是当电路活动时消耗的功耗。一般而言,在0.13um以上的设计中,动态功耗占主要部分;但在纳米尺度(90nm和65nm)的设计中,泄漏电流成为影响功耗的关键因素。
低功耗的设计贯穿了IC设计的整个流程。
在系统级,进行软、硬划分时,要考虑那种方案会得到更
本文探讨了集成电路中的低功耗设计,分析了动态功耗(翻转功耗、短路功耗)和静态功耗(漏电流)的来源,并提出了在系统级、RTL设计级、逻辑综合和布局布线等阶段降低功耗的技术。强调在纳米尺度设计中,漏电流成为关键问题,需要在架构、电路、器件和材料层面采取措施减少漏电流。
低功耗设计在现在的IC系统中非常重要,正如Intel所称:功耗问题是决定摩尔定理能否适用的唯一因素。在CMOS电路中,功耗可以分为动态功耗和静态功耗。静态功耗是电路不工作时消耗的功耗;动态功耗是当电路活动时消耗的功耗。一般而言,在0.13um以上的设计中,动态功耗占主要部分;但在纳米尺度(90nm和65nm)的设计中,泄漏电流成为影响功耗的关键因素。
低功耗的设计贯穿了IC设计的整个流程。
在系统级,进行软、硬划分时,要考虑那种方案会得到更
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